光刻机是半导体制造业的基石，是延续摩尔定律、推动全球数字经济发展的核心驱动力。

在半导体产业链中，光刻机被称为“工业明珠”，占芯片制造成本高达30%，但国产化率不足10%。随着美国技术封锁持续升级，国产替代从“备选项”变为“必选项”。上海微电子的90nm光刻机已实现量产，28nm浸没式光刻机研发加速，纳米压印等新技术更突破10nm工艺瓶颈。

值得注意的是，我国在光刻技术领域近期连续取得突破：

近日“中国刻刀”出世，打破多年技术垄断。

2025年8月，杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传出喜讯：全国首台国产商业化电子束光刻机“羲之”已进入应用测试阶段。这台被命名为“羲之”的设备，寓意其精密“书写”能力与书法家王羲之的毛笔神韵相契合，承载着中国半导体行业的多年期盼。其精度高达0.6纳米，比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。

随着近二十年来在光刻领域的投入，国产光刻机产业链逐渐成形。近些年，国内政策提出重点发展光刻机的研发与国产化，设立了三次国家大基金，从2014年第一期注资987.2亿元开始，到2019年第二期注资2041.5亿元，再到2024年第三期注资达3440亿人民币，投入规模超6000亿元，逐步带动了集成电路产业的稳步发展。

本期文章给大家梳理了光刻机概念，仍被低估的6家企业，供大家研究参考。

第六家：联合光电

细分领域：光学镜头、光学元器件

市净率：3.42

光刻机领域亮点：公司是光刻机光学部件配套商，突破了光刻机物镜系统核心光学元件制造技术，非球面透镜面型精度达0.01μm，适配DUV光刻机光学模块。还与中科院光电所合作开发光刻机光学检测设备，2025年光学部件营收中光刻机配套占比提升至18%。此外，掌握光刻机光学镜片超高洁净度清洗技术，洁净度达Class 1级。

第五家：国林科技

细分领域：臭氧设备

市净率：2.59

光刻机领域亮点：国内大型抽氧系统设备龙头企业，其研发的高浓度臭氧水发生器和臭氧气体发生器可用于半导体清洗和薄膜沉积环节，已在多家头部客户中验证，8.6代ALED的京东方生产线验证成功并已批量生产，在光刻环节的清洗工艺中，其Vos工艺成功替代传统的SM清洗工艺，助力实现产业链国产化。

第四家：富乐德

细分领域：半导体及显示面板

市净率：4.12

光刻机领域亮点：半导体及显示面板生产商，提供一站式设备精密清洗服务。已成功研发出半导体14nm制程洗净工艺，储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟，能为光刻环节的熔胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务，服务于京东方、中芯国际等多个生产基地。

第三家：晶方科技

细分领域：传感器领域的封装测试业务

市净率：4.74

光刻机领域亮点：通过并购荷兰Anteryon公司进入光学器件市场，成为光刻机巨头ASML的供应商。晶方科技是全球最大的CIS芯片封测厂之一，拥有完整的8英寸和12英寸WLCSP量产封装产线，是全球WLCSP技术的主要供应商和引领者，其光学器件业务也为光刻机产业链提供了支持。

第二家：苏大维格

细分领域：微纳光学技术

市净率：4.27

光刻机领域亮点：公司是国内微纳光学技术领域的领军企业，是国内唯一实现纳米级定位光栅量产的企业，第三代光栅系统定位误差≤1.5nm，已应用于上海微电子28nm浸没式光刻机的双工件台系统，打破ASML垄断。2025年与中芯国际联合开发的12英寸晶圆厂专用光栅校准系统已进入验证阶段，适配14nm工艺需求。

第一家：珂玛科技

细分领域：先进陶瓷材料零部件

市净率：15.74

光刻机领域亮点：高端陶瓷零部件国产替代先锋，国内少数掌握六大类先进陶瓷全流程工艺的企业，高纯度氧化铝/氮化铝性能达国际水平，陶瓷加热器、静电卡盘通过头部设备商认证。2025年Q1光刻机相关订单同比增120%，在手订单25亿元，产能利用率95%，有望成为国产设备陶瓷解决方案唯一平台。

总结：国产化加速，国家高度重视半导体产业发展，出台了一系列政策支持光刻机行业。中国企业在成熟制程领域国产化加速，预计到2030年，中国有望在全球光刻机市场中占据重要地位，在高端光刻机市场的份额将达到20%至30%左右。但随着其他国家和地区企业的技术突破，其市场份额可能会受到一定冲击，全球光刻机市场竞争格局有望逐渐改变。