中国证券网记者获悉，中微半导体、国家集成电路产业投资基金（下称大基金）和苏州聚源东方投资基金中心已完成对沈阳拓荆科技有限公司（下称拓荆科技）的投资，投资总额2.7亿元。

拓荆科技由中科院所属公司和一批海外归国的技术专家于2010年共同创立，是国内领先的CVD设备供应商。公司主要致力于研发生产创新、先进的化学气相沉积设备（CVD），帮助全球的半导体制造商生产集成电路器件，推动消费类和工业电子产品的发展，目前其PECVD设备已在中国两家客户生产线上通过量产验证，并接到了重复订单。

中微半导体表示，投资有利于双方共同发展，对拓荆科技来说，意味着利用中微遍布全球的销售和客户支持网络、供应链，以及先进的生产制造系统，能够更高效地研发生产先进的CVD设备并加快产业化，同时能够大幅节约成本；对中微则意味着在向全球客户提供卓越的刻蚀产品的同时，可搭配极具竞争优势的薄膜技术。

资料显示，就在年初，中微半导体刚获得大基金4.8亿元投资。中微半导体致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案；其通过创新驱动自主研发的等离子体刻蚀设备和硅通孔刻蚀设备已在国际主要芯片制造和封测厂商的生产线上广泛应用于45纳米到1X纳米及更先进的加工工艺和最先进的封装工艺。目前，在亚洲地区30多条国际领先的生产线上运行的中微反应台已超过400个；用于LED外延片生产和功率器件生产的MOCVD设备也已经在客户生产线投入量产。

拓荆科技董事长和创始人姜谦表示，本轮融资不仅为拓荆下一阶段的发展注入新的资金动力， 更重要的是这次的注资来自大基金、中微半导体和苏州聚源东方投资基金，这必将促使拓荆科技成为未来中国半导体设备产业发展的战略伙伴；本轮融资将主要用于新市场和新产品的开发，使拓荆更大限度的展现其薄膜沉积设备的优势，为客户在生产成本，客制工艺开发，全套的技术支持等方面提供最高的价值。